英特尔独占ASML高数值孔径极紫外光刻机的多数供应份额，三星和SK海力士需等待至明年下半年。 据韩国媒体TheElec报道，英特尔已成功 包揽了 荷兰ASML生产的High-NA EUV光刻机 直到2025年上半年的大部分供应 量。 报道指出，ASML今年准备制造5台High-NA EUV光刻机。由于这种设备每年只能生产约5~6台， 这意味着首批设备将全部供应给英特尔 。 英特尔的竞争对手，如三星电子和SK海力士，预计将需要等 到2025年下半年才能拿到上述设备 。对于需要打造2纳米芯片的企业来说，High-NA EUV光刻设备至关重要，每台价格高达3.73亿美元。 与此同时，台积电也宣布其在芯片制造领域的最新进展。台积电称，全新的“A16”制程将于2026年下半年投产，且 该制程并不需要用到ASML的High-NA EUV光刻机 。台积电高层在会议上表示，AI芯片制造商很可能是首批采用A16制程的客户。台积电的重要客户包括英伟达（Nvidia Corp.）和苹果（Apple Inc.）等。 对于英特尔能否如其所言，通过其“14A”制程打造全世界运算速度最快的芯片，业界仍存在质疑。TechInsights副董事长Dan Hutcheson表示，英特尔的说法存在争议，他认为在某些方面，英特尔尚未领先其竞争对手。 免责声明：文章内容由微电子制造综合，发布/转载只作交流分享。如有异议请及时联系，谢谢。 推荐阅读 扫码了解 第二十六届集成电路制造年会暨供应链创新发展大会(CICD) 2024年5月22-24日—广州 第十六届中国集成电路封测产业链创新发展高峰论坛(CIPA) 2024年7月12-13日—苏州 第十二届(2024年)半导体设备与核心部件展示会(CSEAC) 2024年9月25-27日—无锡 进群交流 扫码添加管理员微信（备注“公司名称+产品”，否则不予通过）入群交流 拓宽人脉 认识更多行业大咖