点击蓝字 京东方：“一种光波导器件及AR显示装置”专利，可提高光效 国家专利局消息显示，北京京东方技术开发有限公司“一种光波导器件及AR显示装置”专利公布，申请公布日为2024年3月26日，申请公布号为CN117761825A。专利可提高AR显示设备的光效。 图片来源：国家专利局 专利信息显示，本公开提供一种光波导器件及AR显示装置，所述光波导器件包括：光波导板，及设于所述光波导板上的耦入光栅、反射元件和耦出光栅；其中，所述耦入光栅被配置为将入射光耦入至所述光波导板中，并在所述光波导板中形成衍射光线；所述反射元件被配置为接收来自所述光波导板中的所述衍射光线，并将所述衍射光线反射至所述耦出光栅；所述耦出光栅被配置为接收来自所述反射元件反射的衍射光线，并将所述衍射光线射出。本公开实施例提供的光波导器件及AR显示装置，其是提供了一种AR增强现实显示系统的新架构，能够提高光效。 据悉， 京东方在AR/VR设备领域上，可提供Micro OLED显示模组和Fast LCD模组，尺寸包含0.39英寸至5.5英寸 ，具有高分辨率，快速响应，高刷新率等特点，可应用于多种微显示场景。另外，京东方的MLDE技术也可为VR/AR等领域显示产品提供高品质及高可靠性的 LED 背光产品。 此前，京东方发布了多款微显示新品，包括全球首发的1.3英寸双目4K Micro OLED显示屏，像素密度达4000+PPI，亮度达5000nits。京东方还推出了超薄大视角的Si-OLED双目光学系统，具有高亮度与显示密度的同时，产品更加轻薄。 北京大学：申请Micro LED芯片专利，可降低制备复杂度 据国家知识产权局公告，北京大学申请一项名为“一种基于无掩模二次外延的Micro-LED芯片阵列的制备方法“，公开号CN117766642A，申请日期为2023年12月。该专利可降低Micro LED制备工艺的复杂度。 图片来源：国家专利局 专利摘要显示，本发明公开了一种基于无掩模二次外延的Micro LED芯片阵列的制备方法。本发明通过对GaN模板进行干法刻蚀，形成应力弛豫图形化GaN模板，再在应力弛豫图形化GaN模板基础上选区二次外延多量子阱等结构，有效避免对多量子阱区域进行干法刻蚀，从而避免了多量子阱的侧壁刻蚀损伤；应力弛豫图形化GaN模板使得n型掺杂的GaN受到的应力得到有效弛豫；在应力弛豫图形化GaN模板上生长的预应力层，所受到的压应力得到部分弛豫，面内晶格常数得到扩张，从而减小铟并入所需要的能量，增加多量子阱中铟的并入；在制备应力弛豫图形化GaN模板中的刻蚀，使得只有GaN微米柱阵列的顶面为c面，作为生长面；选区二次外延生长，不需要额外的掩模，降低了Micro LED制备工艺的复杂度。 来源：LEDinsde 声明： 本文章版权归原作者及原出处所有，只提供参考并不构成投资及应用建议。本平台上部分文章为转载，不用于商业目的，如有涉及侵权请及时联系告知我们，我们会尽快处理。本对此声明拥有最终解释权。 更多资讯 展会精彩回顾 👉 UDE2024盛大开幕，开年首展蓄势声、光、视、讯、显、元宇宙六大产业发展新动能（点击查看）👉 现场直击，UDE2024精彩继续，引爆声、光、视、讯、显、元宇宙六大产业热潮（点击查看）👉 UDE2024圆满落幕，人潮涌动，笔笔订单开启2024贸易新篇章（点击查看) 👉 直击UDE2024 Micro LED、柔性屏、透明屏、ARVR......看各大创新应用产品如何引领行业风向（点击查看) 👉 直击UDE2024 井喷式亮相，来看这些显示/光学模组、IC及控制系统产品有何亮点？（点击查看) 👉 直击UDE2024 材料设备国产替代大迈进！这些产业链厂商如何致力Mini/Micro LED量产化（点击查看) 👉 智汇谈 Mini LED背光技术现状及发展趋势如何？来听听海信、TCL、HDMI、显芯、安思等企业大咖们怎么说（点击查看) 👉 全产业链展商集结，把握数字信息经济时代，UDE “新型显示产业朋友圈”再扩充！（点击查看) 👉 智汇谈 京东方MLED业务全球推介会圆满召开，技术探索，产品出海，全面起航！（点击查看) 👉 千万流量汇聚，媒体声量赋能，UDE拉动品牌宣传与产品曝光的双重引擎（点击查看) 👉 智汇谈 重庆康佳、诺瓦星云、辰显、大族、盟拓等行业大咖齐聚，共同打通量产技术重要环节（点击查看) 👉 不出海，就出局！112个国家及地区海外买家强势来袭，UDE为中国品牌发出产业最强音（点击查看) 👉 智汇谈 2024“电比油低”，新能源“开卷”！新型显示如何助力智驾生态，听听天马、友达、吉利等企业大咖有何想法（点击查看) 👉 智汇谈 与芯视元、昀光、熙泰、赛富乐思、甬江实验室等嘉宾大咖探秘XR生态、空间计算、Micro LED全彩化等热点话题（点击查看) 点一下 赞和在看 再走吧